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UV能量計(jì)校準(zhǔn),數(shù)據(jù)調(diào)試,維修
UV能量計(jì)校準(zhǔn),數(shù)據(jù)調(diào)試,維修UV能量計(jì)出現(xiàn)數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,偏差比較大,或者跟現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)不一致,別慌,寄給我們調(diào)試就可以深圳市德勝興電子有限公司可以校正UV能量計(jì)關(guān)于UV能量計(jì)校正,您需要了解下以下情況:1、 已有標(biāo)準(zhǔn)表,就是你一直測(cè)試的這臺(tái)表。需按按原有標(biāo)準(zhǔn)校正UV能量計(jì)的客戶,必須提供原
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DISCO TAIKO工藝區(qū)別
DISCO TAIKO工藝區(qū)別TAIKO工藝TAIKO工藝,是DISCO公司開發(fā)的晶片背面研削的新技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)和以往的背面研削不同,在對(duì)晶片進(jìn)行研削時(shí),將保留晶片外圍的邊緣部分(約3mm左右),只對(duì)圓內(nèi)進(jìn)行研削薄型化。通過導(dǎo)入這項(xiàng)技術(shù),可實(shí)現(xiàn)降低薄型晶片的搬運(yùn)風(fēng)險(xiǎn)和減少翹曲的作用?!癟AIKO工藝”的優(yōu)點(diǎn)通過在晶片外圍留邊減少晶片
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日亞燈的照度值是怎么計(jì)算?
日亞燈的照度值是怎么計(jì)算?很多UV LED大廠針對(duì)每一個(gè)型號(hào)的UVLED燈珠都有出示一份專業(yè)的規(guī)格書。規(guī)格書上面有一項(xiàng),Radiant Flux 單位是(mW).這個(gè)值就是我們說的照度值或者光功率密度,不是指電功率,是光電轉(zhuǎn)換后紫外線那部分光功率。就是UV intensity。 現(xiàn)在來說下日本日亞NICHIA原廠給出的規(guī)格書上面
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紫外光殺菌原理
紫外光殺菌原理深紫外線消毒的基本原理。為什么用深紫外線能消毒,而不是用藍(lán)光,綠光,紅外光呢?光是輻射波的一種,以電磁波形式或粒子形式來傳播能量,可遵循下邊幾個(gè)光化學(xué)定律以及定則:光化學(xué)第一定律:光必須被物質(zhì)分子吸收才能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。光化學(xué)第二定律:一個(gè)被吸收的光子只能夠活化
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UVLED封裝制程之固晶
UVLED封裝制程之固晶UV LED封裝工藝——固晶固晶:利用固晶膠(銀膠/絕緣膠/無(wú)機(jī)膠)將芯片與支架粘連在一起,實(shí)現(xiàn)芯片固置于支架上,可對(duì)芯片起到一定的穩(wěn)固、保護(hù)、散熱、電連等作用。固晶站生產(chǎn)工藝流程框架UV LED 封裝固晶站生產(chǎn)流程,可分為三個(gè)主要的生產(chǎn)流程:原材料制備(固晶膠、支架、晶片)、
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紫外線固化燈珠封裝技術(shù)
紫外線固化燈珠封裝技術(shù)UVA LED 封裝技術(shù),UVA LED一般用于固化用途,今天來聊下UVA LED的封裝技術(shù)由于,各類型的UVA LED光源器件會(huì)存在著波長(zhǎng),功率以及應(yīng)用的不同,這相應(yīng)地會(huì)出現(xiàn)不同的封裝方式。比如:TO類、仿流明類、直插類以及SMD類……等等多種LED封裝形式。這里主要分享應(yīng)用范圍較廣的SMD封裝形式,目
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具有PC通信和圖形顯示的UV能量計(jì)
具有PC通信和圖形顯示的UV能量計(jì)UV Meter LED紫外線能量計(jì)功能1:能同時(shí)測(cè)試能量值,照度值和溫度值功能2:顯示屏可直接顯示曲線圖功能3:可與電腦連接打印測(cè)試報(bào)告功能4:滿足各個(gè)通訊電子大廠的測(cè)試需求功能5:標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)一,性能穩(wěn)定簡(jiǎn)介UV Meter LED紫外線能量計(jì)廣泛應(yīng)用在UV工業(yè)領(lǐng)域??蛇x擇多種紫外波長(zhǎng),參考模式U
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晶圓擴(kuò)膜機(jī)在晶元制程里面的作用
晶圓擴(kuò)膜機(jī)在晶元制程里面的作用什么是晶圓擴(kuò)膜機(jī)? 晶圓擴(kuò)膜機(jī)是用于切割制程之后,將膜均勻拉伸,從而使切割后的芯片分離,并均勻拉開一定距離的設(shè)備。采用伺服電機(jī)的擴(kuò)膜方式,擴(kuò)膜高度及速度可在配置的觸摸屏中參數(shù)化進(jìn)行設(shè)置。晶圓擴(kuò)膜機(jī)有多種叫法稱呼:擴(kuò)晶機(jī)、LED擴(kuò)晶機(jī)、LED擴(kuò)膜機(jī)、晶粒擴(kuò)
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晶圓劃片工藝流程介紹
晶圓劃片工藝流程介紹上一篇我們大概介紹了晶圓的研磨減薄工藝,接下來介紹劃片工藝劃片:劃片是將已流片的大圓片進(jìn)行分別分離,將連在一起的芯片分割開來。晶圓劃片工藝涉及到很多設(shè)備和儀器。東莞市聚德偉業(yè)電子科技有限公司專業(yè)解決半導(dǎo)體行業(yè)晶圓劃片配套設(shè)備供應(yīng)環(huán)節(jié)。量產(chǎn)設(shè)備晶圓解膠機(jī)晶圓貼膜機(jī)
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背面研磨(Back Grinding)決定晶圓的厚度
背面研磨(Back Grinding)決定晶圓的厚度經(jīng)過前端工藝處理并通過晶圓測(cè)試的晶圓將從背面研磨(Back Grinding)開始后端處理。背面研磨是將晶圓背面磨薄的工序,其目的不僅是為了減少晶圓厚度,還在于聯(lián)結(jié)前端和后端工藝以解決前后兩個(gè)工藝之間出現(xiàn)的問題。半導(dǎo)體芯片(Chip)越薄,就能堆疊(Stacking)更多芯片,集成度也
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